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又(you)稱(cheng)為四氟甲烷、Freon-14及(ji)R 14，是一種(zhong)鹵代(dai)烴(jing)(化(hua)學(xue)式：CF4)
四氟化碳是目前微(wei)電子(zi)工業中用(yong)量 的(de)等(deng)離子(zi)蝕刻氣(qi)體(ti)，其高(gao)純(chun)(chun)氣(qi)及四氟化碳高(gao)純(chun)(chun)氣(qi)配高(gao)純(chun)(chun)氧氣(qi)的(de)混(hun)合氣(qi)，可廣泛應用(yong)于硅、二氧化硅、氮化硅、磷(lin)硅玻璃(li)及鎢等(deng)薄(bo)膜材料的(de)蝕刻，在電子(zi)器件表面清洗、太(tai)陽能電池的(de)生產(chan)、激光(guang)技術(shu)、氣(qi)相絕緣、低溫制(zhi)冷、泄漏(lou)檢驗(yan)劑、控(kong)制(zhi)宇宙火箭姿態、印刷電路生產(chan)中的(de)去污劑等(deng)方面也(ye)大量使用(yong)。
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